離子注入設(shè)備
類別: 應(yīng)用示例
發(fā)布日期:2017年12月26日(星期二)
離子注入是一種通過將離子化物質(zhì)注入固體來改變固體性質(zhì)的一種加工方法。
在半導(dǎo)體制造的前端工藝中,通過使用離子注入,可以向晶片中引入適當?shù)碾s質(zhì)以改善半導(dǎo)體元件特性。
廣泛用于控制半導(dǎo)體材料的電特性的工藝中,一般由產(chǎn)生的離子束的束量和能量,可以分為中等電流離子注入設(shè)備、大電流離子注入設(shè)備及高能量離子注入設(shè)備。
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